第一千一百五十八章 光刻机(1/2)

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段云这次来日本,虽然所有的住宿餐饮全部由日方负责接待,但是段云还是提前兑换出了30万美元,以备不时之需。

当天晚上,段云一直思考到很晚才睡着,内心带着几分不安和焦虑。

而在另一侧房间的李芸,也同样到很晚才睡着的,和段云分开后,她一直都坐在房间靠窗的沙发上,看着窗外璀璨夺目的东京夜景,内心则是满满的兴奋和激动……

……

第2天一早,东芝派车把段云接到了位于东京市郊的芯片工厂,而这次接待他们的,则正是上次来华考察的田中信一。

看到段云之后,田中也表现的非常热情,领他到东芝的芯片工厂进行了参观。

一直以来,日本的芯片产业由6家巨型电子公司做掌控,其中包括:日本电器,富士通,日立,东芝,三菱电机,和冲电器组成,他们直接从政府得到资助,用于提高日本高科技行业的技术。

这些公司不仅生产芯片还生产电子设备,不过在80年代的时候,这些公司的年营业额收入中只有7%来自芯片的销售,而在这几家企业中,东芝公司的占比稍高一些,能达到13%左右。

在田中信一的带领下,段云和李芸进入了生产车间后,立刻就被工作人员安排换上了防尘服。

段云的天音电子厂也有无尘车间,但是和东芝公司的无尘车间相比,相差了不止一个等级,这个车间的密封度非常高,工人进入车间的时候不仅要穿上全套的防尘服,而且还要进行全身的清洗和消毒。

而进入生产车间后,里面的情况也让段云和李芸感到了震撼。

所有的工人都在有条不紊的工作着,里面的机器看起来非常的先进和精密,偌大的车间只有100多名工人,但根据田中信一的介绍,这个车间年产芯片能达到惊人的500万枚。

芯片生产是个非常精密复杂的过程,车间里的每样设备动辄几百万,甚至上千万美元,投入是相当巨大的。

另外生产芯片的机器主要有光刻机,等离子刻蚀刻机,离子注入机,单晶炉,晶圆划片机,晶片减薄机,氧化炉,低压化学气沉淀积系统,磁控溅射台,化学机械研磨机,引线键合机,以及探针测试台等等。

这些设备都是当前国际芯片产业最先进的设备,而最为后世人所熟知的芯片生产设备,就当属光刻机了。

光刻机也叫做激光雕刻机,是一种专门用来制造微小电子元件的设备,至于这个“微小”要微小到什么程度呢?就拿当今世界上最流行的芯片工艺来说,7nm工艺大概要求大概是人类头发丝的万分之一,可以想象这其中的技术有多难了。

我国实际上也进行过光刻机的研发,并且这件事要追溯到半个世纪以前的60年代。当时,我国的专家们就已经研发出了65型接触式光刻机,而当时荷兰ASML公司还要过5年才成立,说来也是讽刺,虽然我国当时领先了荷兰ASML五年,后来却一落千丈,远远落后世界水平。

原来在80年代,我国光刻机技术出现了一次“滑铁卢”,不知道是科研资金不够还是“飘了”,我国科研人员甚至一度放弃了光刻机的研究,并且倡导从国外进口。可能当时的人没能考虑到进口的弊端,于是自研光刻机的事就一直被搁置了起来,就连前面20年的研究成果,也都付诸东流了。

也许是中国半导体行业的不景气,就连最后坚守在光刻机行业的武汉三厂最终也选择了转行,并卖起了零食,后来,直到台湾台积电公司开发出了193nm光刻机,国人才终于顿悟,直至今日,我国光刻机还是依靠进口。

通过对田中信一的询问,目前东芝电子厂已经可以生产4~5英寸圆晶,0.9微米级别的芯片。

听到田中的介绍,段云内心有些暗暗吃惊。

其实早在来日本之前,段云对国内目前的芯片产业技术情况已经有了比较全面的了解。

1986年,电子工业部在厦门召开集成电路发展战略研讨会,提出“七五”(1986—1990年)期间我国集成电路技术的“531”发展战略,即普及推广以742厂为基点的5微米技术,同时开发3微米技术,攻关1微米技术。

但实际上,一直到1993年的时候,国内才开发出 5英寸,三微米技术,而这比起日本,已经整整相差了15年以上。

“这套设备我要了。”段云走到一台光刻机前,对田中信一说道。

“段云先生……”田中闻言先是愣了一下,随即笑着对段云说道:“这是目前我们公司最先进的光刻机,全日本也只有6台,这个是不可能卖给你们的……另外你们生产的这种闪存芯片也用不着精密度这么高的光刻机。”

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